4月29日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，三星電子今日發(fā)布了第一季度財(cái)報(bào)，該公司表示芯片代工業(yè)務(wù)第一季度業(yè)績(jī)下滑。
三星電子芯片代工業(yè)務(wù)第一季度收益(earnings)略微下滑，因?yàn)橹袊?guó)客戶的高性能計(jì)算芯片需求下滑。
三星電子表示，第二季度將加強(qiáng)EUV(極紫外光刻，Extreme Ultra-violet)領(lǐng)導(dǎo)地位，開始大規(guī)模量產(chǎn)(mass production)5nm產(chǎn)品。
三星電子還表示，將專注于GAA 3nm制程。GAA即Gate-All-Around，環(huán)繞式柵極技術(shù)。
在芯片代工業(yè)務(wù)領(lǐng)域，三星電子目前位列第二。排名第一的是臺(tái)積電，去年市場(chǎng)占有率達(dá)52%。
臺(tái)積電本月早些時(shí)候也提到，5nm制程于2020年上半年開始量產(chǎn)。
關(guān)于3nm制程技術(shù)，臺(tái)積電表示，相較于5nm制程技術(shù)，3nm制程技術(shù)大幅提升晶片密度及降低功耗并維持相同的晶片效能。2019年，臺(tái)積電的研發(fā)著重于基礎(chǔ)制程制定、良率提升、電晶體及導(dǎo)線效能改善以及可靠性評(píng)估。臺(tái)積電表示，今年將持續(xù)進(jìn)行3nm制程技術(shù)的全面開發(fā)。
臺(tái)積電還表示，已開始開發(fā)領(lǐng)先半導(dǎo)體業(yè)界的2nm技術(shù)，同時(shí)針對(duì)2nm以下的技術(shù)進(jìn)行探索性研究。
關(guān)于臺(tái)積電和三星電子之間的競(jìng)爭(zhēng)，臺(tái)積電創(chuàng)始人張忠謀曾表示，三星電子是很厲害的對(duì)手，目前臺(tái)積電暫時(shí)占優(yōu)勢(shì)，但臺(tái)積電跟三星的戰(zhàn)爭(zhēng)絕對(duì)還沒結(jié)束，臺(tái)積電還沒有贏。
責(zé)任編輯：Rex_01
